Guadalajara, Jal., El proyecto de un estudiante de ingeniería en nanotecnología en la Universidad de Guadalajara (UdeG) será puesto en órbita a inicios del próximo año para probar un nanomaterial que podría usarse como escudo contra la radiación que existe en el espacio, el cual cubriría los trajes espaciales y las naves.
La innovación fue desarrollada por José Armando Becerra Hernández, alumno del campus Tonalá de la UdeG, quien en noviembre pasado presentó el proyecto a la NASA en un campamento de la agencia estadunidense, con el cual obtuvo el tercer lugar.
El proyecto también pareció prometedor a investigadores de su universidad, quienes apoyaron al estudiante, lo que permitió consolidar el material creado con base en polímeros que en teoría impedirá los efectos de la radiación alfa, beta, gamma o ultravioleta fuera de la atmósfera terrestre.
“Estos materiales están siendo muy estudiados porque existe el problema de que cuando un astronauta sale a la Estación Espacial Internacional, o quizá durante un viaje a la Luna, ya no hay atmósfera o campo magnético que lo proteja de la radiación del sol o el espacio exterior”, explicó.
Indicó que uno de los problemas más comunes en los viajes al espacio es la carencia de materiales ligeros y eficientes que retengan la mayor cantidad de radiación.
Apoyo institucional
“La UdeG me ofreció su infraestructura y materiales y el asesoramiento de doctores y el equipo. A inicios de 2024 empecé a desarrollar el material y contactar con una agencia espacial que se encargará de llevar el nanomaterial al espacio”, agregó.
El material estará en órbita unos seis meses y, una vez que regrese a la Tierra, se analizará qué estragos le causó la radiación y así evaluar la resistencia al ambiente fuera de la protección de la atmósfera.
Juan Miguel García Ávalos, responsable de Transferencia Científica y Tecnológica del CU Tonalá, comentó que se trata de un material que cuenta “con potencial para patentarse” y que de resultar positivo se piensa en lograr los derechos de protección intelectual.
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